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四川大决策投顾:外部持续封锁下光刻机国产化势在必行

发布时间:2025-01-08 作者: 杏彩体育官方下载平台-uv光固机

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  四川大决策投顾 摘要:光刻机是半导体产业的核心设备,直接决定芯片制程的先进程度,重要性不言而喻,在全球半导体产业持续扩张的趋势下,光刻机市场规模长期可观。

  光刻是先进制程的关键步骤,半导体产业的基石。光刻是一种图像复制技术,在芯片制作的完整过程中耗时最长,成本占比最高。作为先进制程的关键步骤,光刻分辨率决定了元件的最小特征尺寸与芯片的集成度。根据瑞利准则,能够最终靠缩短光源波长、增大数值孔径、减小光刻工艺因子提高光刻分辨率,进而提升芯片的性能。光刻技术作为半导体产业的基石,一般用工艺节点反应半导体行业发展水平,28nm 是工艺节点的重要分水岭,在性价比方面与下一代工艺有着较大差异。

  光刻是最复杂工艺,光刻工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右,耗费时间占比约40-50%,光刻工艺所需的光刻机是最贵的半导体设备。是所有半导体设备中难度最高、最难突破的一环。其原理是将高能镭射光穿过掩模版,经过物镜补偿各种光学误差,从而将掩模版上的图形缩小 1/16 后成像在预先涂制好光刻胶的晶圆上。光刻机是数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、算法、图像识别领域等多项顶尖技术的集大成者。

  光刻机产业链涉及范围广。从产业链来看,光刻机产业链最重要的包含上游设备及材料、中游光刻机生产及下游光刻机应用三大环节。光刻机技术极为复杂,在所有半导体制造设备中技术上的含金量最高。主要涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进的技术,生产一台光刻机往往涉及到上千家供应商。

  光刻机市场前三大供应商(荷兰阿斯麦 ASML、日本佳能 Canon、日本尼康 Nikon)占据了绝大多数市场份额。

  美国对华芯片产业管制政策不断加码。2024 年 9 月 5日,美国商务部工业和安全局(BIS)在《联邦公报》上发布了一项临时最终规则(IFR)。2024 年 9 月 6 日,荷兰政府发布有关浸润式 DUV 光刻设备出口的最新许可证要求,该政策与美国的出口管制要求“对齐”,ASML 将需要向荷兰政府而非美国政府申请 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 型号浸润式 DUV 光刻系统的出口许可证。此外美国 BIS 发布的 IFR 升级了对量子计算、先进半导体制造、GAAFET 等有关技术的出口管制。美国众议院设立的中国问题特别委员会向半导体设备制造商——KLA、LAM、应用材料、TEL 以及 ASML 发出信函,要求他们提供对中国的销售细节。信中明确要求这一些企业在 2024 年 12 月 1 日前提交包括在华前 30 大客户的收入情况、对国家安全或贸易限制名单上公司的销售记录,以及任何将生产业务转移海外的计划等在内的详细信息。

  中美半导体脱钩加剧,国产替代需求迫切,特朗普连任或加剧封锁。中美半导体行业脱钩趋势加剧,地理政治学紧张升级,美国不断主导建立对华半导体封锁圈,使该现象未见缓解,因美国对中国的科技限制和制裁使国产替代需求迫切,促使半导体材料国产化加速。11 月特朗普宣布赢得 2024 年美总统选举后,可能在外交政策上采取贸易保护主义,通过关税等手段施压中国贸易逆差问题;在科技领域,可能加大对华高科技出口管制,包括半导体等,可能通过“实体清单”等手段限制中国科技公司。这些措施构成全方位封锁网,从设备、人才、技术、资本等多维度围堵中国半导体产业,美国打压策略已扩展至联合盟友和全产业链封锁。

  (1)中国半导体行业协会:呼吁相关国家和地区的企业要努力成为可靠半导体产品供应商,呼吁中国政府支持可靠半导体产品供应商的稳定发展;(2)中国互联网协会:呼吁国内企业主动采取应对措施,审慎选择采购美国芯片,寻求扩大与其他几个国家和地区芯片企业的合作,并积极使用内外资企业在华生产制造的芯片;(3)中国汽车工业协会:为保障汽车产业链、供应链安全稳定,建议中国汽车企业谨慎采购美国芯片;(4)中国通信企业协会:美国对华管制措施的随意性影响美国芯片产品的稳定供应,应谨慎采购美国芯片。

  目前国内的 IC 前道光刻机市场主要被 ASML、Nikon和 Canon 瓜分。中国大陆光刻机进口金额一直增长,2023 年 ASML 在中国大陆销售额为 80.1 亿美元,同比增长 157.6%,ASML 为中国大陆光刻机最大的进口来源。上海微电子是大陆光刻机头部厂商,其自主研发的 600 系列光刻机可批量生产 90nm 工艺的芯片。但是在技术层面,上海微电子的 IC 前道光刻机与国际领先水平差距仍较大,国产光刻机任重道远。

  光刻机是半导体产业的核心设备,直接决定芯片制程的先进程度,重要性不言而喻,在全球半导体产业持续扩张的趋势下,光刻机市场规模长期可观。

  相关个股:晶方科技、茂莱光学、旭光电子、福光股份、美埃科技、福晶科技、百傲化学、永新光学、汇成真空、波长光电、腾景科技等。

  1.2023-12-1安信证券——芯片制造核心瓶颈环节,光刻机国产替代加速推进

  2.2023-12-11平安证券——光刻机:现代工业集大成者,亟待国产破局

  3.2024-12-5国信证券——先进制程关键步骤,半导体设备明珠,光刻机市场迎国产化机遇

  4.2024-11-18光大证券——产业政策持续加码,国产光刻机任重道远

  (风险提示:四川大决策投顾分享的内容旨在为您梳理投资方向及参考学习,不构成投资建议,不作为买卖依据,您应当基于审慎原则自行参考,据此操作风险自担!)


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四川大决策投顾:外部持续封锁下光刻机国产化势在必行

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  四川大决策投顾 摘要:光刻机是半导体产业的核心设备,直接决定芯片制程的先进程度,重要性不言而喻,在全球半导体产业持续扩张的趋势下,光刻机市场规模长期可观。

  光刻是先进制程的关键步骤,半导体产业的基石。光刻是一种图像复制技术,在芯片制作的完整过程中耗时最长,成本占比最高。作为先进制程的关键步骤,光刻分辨率决定了元件的最小特征尺寸与芯片的集成度。根据瑞利准则,能够最终靠缩短光源波长、增大数值孔径、减小光刻工艺因子提高光刻分辨率,进而提升芯片的性能。光刻技术作为半导体产业的基石,一般用工艺节点反应半导体行业发展水平,28nm 是工艺节点的重要分水岭,在性价比方面与下一代工艺有着较大差异。

  光刻是最复杂工艺,光刻工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右,耗费时间占比约40-50%,光刻工艺所需的光刻机是最贵的半导体设备。是所有半导体设备中难度最高、最难突破的一环。其原理是将高能镭射光穿过掩模版,经过物镜补偿各种光学误差,从而将掩模版上的图形缩小 1/16 后成像在预先涂制好光刻胶的晶圆上。光刻机是数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、算法、图像识别领域等多项顶尖技术的集大成者。

  光刻机产业链涉及范围广。从产业链来看,光刻机产业链最重要的包含上游设备及材料、中游光刻机生产及下游光刻机应用三大环节。光刻机技术极为复杂,在所有半导体制造设备中技术上的含金量最高。主要涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进的技术,生产一台光刻机往往涉及到上千家供应商。

  光刻机市场前三大供应商(荷兰阿斯麦 ASML、日本佳能 Canon、日本尼康 Nikon)占据了绝大多数市场份额。

  美国对华芯片产业管制政策不断加码。2024 年 9 月 5日,美国商务部工业和安全局(BIS)在《联邦公报》上发布了一项临时最终规则(IFR)。2024 年 9 月 6 日,荷兰政府发布有关浸润式 DUV 光刻设备出口的最新许可证要求,该政策与美国的出口管制要求“对齐”,ASML 将需要向荷兰政府而非美国政府申请 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 型号浸润式 DUV 光刻系统的出口许可证。此外美国 BIS 发布的 IFR 升级了对量子计算、先进半导体制造、GAAFET 等有关技术的出口管制。美国众议院设立的中国问题特别委员会向半导体设备制造商——KLA、LAM、应用材料、TEL 以及 ASML 发出信函,要求他们提供对中国的销售细节。信中明确要求这一些企业在 2024 年 12 月 1 日前提交包括在华前 30 大客户的收入情况、对国家安全或贸易限制名单上公司的销售记录,以及任何将生产业务转移海外的计划等在内的详细信息。

  中美半导体脱钩加剧,国产替代需求迫切,特朗普连任或加剧封锁。中美半导体行业脱钩趋势加剧,地理政治学紧张升级,美国不断主导建立对华半导体封锁圈,使该现象未见缓解,因美国对中国的科技限制和制裁使国产替代需求迫切,促使半导体材料国产化加速。11 月特朗普宣布赢得 2024 年美总统选举后,可能在外交政策上采取贸易保护主义,通过关税等手段施压中国贸易逆差问题;在科技领域,可能加大对华高科技出口管制,包括半导体等,可能通过“实体清单”等手段限制中国科技公司。这些措施构成全方位封锁网,从设备、人才、技术、资本等多维度围堵中国半导体产业,美国打压策略已扩展至联合盟友和全产业链封锁。

  (1)中国半导体行业协会:呼吁相关国家和地区的企业要努力成为可靠半导体产品供应商,呼吁中国政府支持可靠半导体产品供应商的稳定发展;(2)中国互联网协会:呼吁国内企业主动采取应对措施,审慎选择采购美国芯片,寻求扩大与其他几个国家和地区芯片企业的合作,并积极使用内外资企业在华生产制造的芯片;(3)中国汽车工业协会:为保障汽车产业链、供应链安全稳定,建议中国汽车企业谨慎采购美国芯片;(4)中国通信企业协会:美国对华管制措施的随意性影响美国芯片产品的稳定供应,应谨慎采购美国芯片。

  目前国内的 IC 前道光刻机市场主要被 ASML、Nikon和 Canon 瓜分。中国大陆光刻机进口金额一直增长,2023 年 ASML 在中国大陆销售额为 80.1 亿美元,同比增长 157.6%,ASML 为中国大陆光刻机最大的进口来源。上海微电子是大陆光刻机头部厂商,其自主研发的 600 系列光刻机可批量生产 90nm 工艺的芯片。但是在技术层面,上海微电子的 IC 前道光刻机与国际领先水平差距仍较大,国产光刻机任重道远。

  光刻机是半导体产业的核心设备,直接决定芯片制程的先进程度,重要性不言而喻,在全球半导体产业持续扩张的趋势下,光刻机市场规模长期可观。

  相关个股:晶方科技、茂莱光学、旭光电子、福光股份、美埃科技、福晶科技、百傲化学、永新光学、汇成真空、波长光电、腾景科技等。

  1.2023-12-1安信证券——芯片制造核心瓶颈环节,光刻机国产替代加速推进

  2.2023-12-11平安证券——光刻机:现代工业集大成者,亟待国产破局

  3.2024-12-5国信证券——先进制程关键步骤,半导体设备明珠,光刻机市场迎国产化机遇

  4.2024-11-18光大证券——产业政策持续加码,国产光刻机任重道远

  (风险提示:四川大决策投顾分享的内容旨在为您梳理投资方向及参考学习,不构成投资建议,不作为买卖依据,您应当基于审慎原则自行参考,据此操作风险自担!)